西安某半导体行业集成电路芯片生导致产制作厂，晶圆生产制作方式中导致含硅、氟的特俗电镀污水，定制正确正确处理大规模1200吨/日。电镀污水组成成分繁多，所含纳米级级硅顆粒及盐酸，传统的正确正确处理办法得以合格。 化工废水化学成分及源头 一般生态破坏物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒级）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 主要来源工艺流程 ：晶圆刻蚀污废渣 （45%）、CMP药剂学机制cnc精密机械加工污废渣 （40%）、机器设备冲干净水（15%） 治理艺步骤 革新采取"耐腐蚀积淀+独特的膜提取"能力规划： 钙盐奠定 ：污泥脱水氯化钙取除氟铁离子（自动生成CaF2沉淀出的） 水解酸化池反應 ：组合水解酸化池剂满足电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜挪用微细颗粒肥料 反构建控制系统 ：脱盐率>98%，收旧率75% 蒸发器沉淀 ：浓水段保证 氟化物零排出 后面效果好 氟化物氧浓度：<8mg/L（不超过国度特一级基准10mg/L） 硅含铁：<5mg/L 水资的工业废水处理率：70%用以急冷塔皮肤补水 垃圾减量化：蒸发器杂质量较以往技艺减轻60%